PHOTO MASK MODULE

실시예에 따른 포토 마스크 모듈은 제 1 포토 마스크 및 제 2 포토 마스크를 포함하고, 상기 제 1 포토 마스크는 제 1 얼라인 마크를 포함하고, 상기 제 2 포토 마스크는 제 2 얼라인 마크를 포함하고, 상기 제 1 얼라인 마크는 제 1-1 패턴부 및 제 1-2 패턴부를 포함하고, 상기 제 2 얼라인 마크는 제 2-1 패턴부 및 제 2-2 패턴부를 포함하고, 상기 제 1-1 패턴부 및 상기 제 2-1 패턴부는 다각형 형상 또는 원형 형상으로 형성되고, 상기 제 1-2 패턴부 및 상기 제 2-2 패턴부는 수직 방향으로 교차하는 복...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	JO YEONG DEUK, UM TAE IN, YOON ZIN SEOK, PAIK JEE HEUM
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	실시예에 따른 포토 마스크 모듈은 제 1 포토 마스크 및 제 2 포토 마스크를 포함하고, 상기 제 1 포토 마스크는 제 1 얼라인 마크를 포함하고, 상기 제 2 포토 마스크는 제 2 얼라인 마크를 포함하고, 상기 제 1 얼라인 마크는 제 1-1 패턴부 및 제 1-2 패턴부를 포함하고, 상기 제 2 얼라인 마크는 제 2-1 패턴부 및 제 2-2 패턴부를 포함하고, 상기 제 1-1 패턴부 및 상기 제 2-1 패턴부는 다각형 형상 또는 원형 형상으로 형성되고, 상기 제 1-2 패턴부 및 상기 제 2-2 패턴부는 수직 방향으로 교차하는 복수의 선패턴을 포함하고, 상기 제 1-2 패턴부는 서로 이격하는 복수의 제 1 패턴을 포함하고, 상기 제 2-2 패턴부는 서로 이격하는 복수의 제 2 패턴을 포함하고, 상기 제 1 패턴 및 상기 제 2 패턴의 폭은 상기 제 1-2 패턴부 및 상기 제 2-2 패턴부의 폭의 5% 내지 20%이다.