타겟 배열체를 포함하는 기판, 관련된 패터닝 디바이스 및 계측 방법

초점 타겟으로부터 초점 매개변수를 측정하는 방법, 관련된 기판, 그리고 관련된 패터닝 디바이스가 개시된다. 초점 타겟은 적어도 제1 서브-타겟과 제2 서브-타겟을 포함하고, 각 서브-타겟은 적어도 주기적 메인 피처를 가지며, 여기서 메인 피처의 적어도 일부 서브-요소의 각각의 피치 및/또는 치수 매개변수는 상기 제1 서브-타겟과 제2 서브-타겟이 각각의 상이한 최선의 초점 값을 갖도록 구성되며; 그리고 각 상기 메인 피처는 초점 의존적 질량 중심 및/또는 피치를 갖고 형성된다. 본 방법은 상기 제1 서브-타겟으로부터 제1 측정 신호를 그리고 상기 제2 서브-타겟으로부터 제2 측정 신호를 획득하는 것; 제1 측정 신호와 제2 측정 신호의 차이 신호를 결정하는 것; 및 상기 차이 신호로부터 상기 초점 매개변수를 결정하는 것을 포함한다. Disclosed is a method of measuring a focus parameter from a focus target, and associated substrate and associated patterning device. The focus target comprises at least a first sub-target and a second sub-target, each having at least a periodic main feature, wherein a respective pitch and/or dimensional parameter of at least some sub-elements of the main feature are configured such that said first sub-target and second sub-target have a respective different best focus value; and wherein each said main feature is formed with a focus dependent center-of-mass and/or pitch. The method comprises obtaining a first measurement signal from said first sub-target and a second measurement signal from said second sub-target; determining a difference signal of said first measurement signal and second measurement signal; and determining said focus parameter from said difference signal.