샤워헤드 면판 구성

기판을 프로세싱하기 위한 샤워헤드는 뒤판 및 뒤판에 부착된 면판을 포함한다. 면판은 뒤판을 향하는 제1 표면, 제1 표면에 대향하는 제2 표면 및 제1 표면과 제2 표면 사이에서 연장되는 복수의 관통 구멍을 포함한다. 제1 표면 및 제2 표면 중 적어도 하나에는 적어도 부분적으로 윤곽이 형성된다. A showerhead for processing a substrate comprises a backplate and a faceplate attached to the backplate. The faceplate comprises a fi...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	MARTIN KEITH JOSEPH, BABBAR YOGESH, SUBRAMONIUM PRAMOD, LUO BIN, TOPPING STEPHEN, CHENG WEIFENG
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	기판을 프로세싱하기 위한 샤워헤드는 뒤판 및 뒤판에 부착된 면판을 포함한다. 면판은 뒤판을 향하는 제1 표면, 제1 표면에 대향하는 제2 표면 및 제1 표면과 제2 표면 사이에서 연장되는 복수의 관통 구멍을 포함한다. 제1 표면 및 제2 표면 중 적어도 하나에는 적어도 부분적으로 윤곽이 형성된다. A showerhead for processing a substrate comprises a backplate and a faceplate attached to the backplate. The faceplate comprises a first surface facing the backplate, a second surface opposite to the first surface, and a plurality of through holes extending between the first and second surfaces. At least one of the first and second surfaces is at least partially contoured.