토로이드 모션 향상된 이온 소스

증가된 플라즈마 전위를 갖는 IHC 이온 소스가 개시된다. 특정 실시예들에서, 추출 플레이트는, 더 높은 플라즈마 전위를 달성하기 위해 아크 챔버의 몸체보다 더 높은 전압으로 바이어싱된다. 바이어싱된 추출 플레이트와 플라즈마 사이의 상호작용을 제거하기 위해 차폐 전극들이 활용될 수 있다. 아크 챔버의 단면은, 챔버에서의 전자들의 회전을 용이하게 하기 위해 원형 또는 거의 원형일 수 있다. 다른 실시예에서, 바이어싱된 전극들이 높이 방향으로 추출 애퍼쳐의 대향하는 측들 상에서 챔버 내에 배치될 수 있다. 일부 실시예들에서, 전극들 중...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	CHOI JIN YOUNG, KIM JUNE YOUNG, CHUNG KYOUNG-JAE, KOO BON-WOONG, HWANG YONG-SEOK
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!