토로이드 모션 향상된 이온 소스

증가된 플라즈마 전위를 갖는 IHC 이온 소스가 개시된다. 특정 실시예들에서, 추출 플레이트는, 더 높은 플라즈마 전위를 달성하기 위해 아크 챔버의 몸체보다 더 높은 전압으로 바이어싱된다. 바이어싱된 추출 플레이트와 플라즈마 사이의 상호작용을 제거하기 위해 차폐 전극들이 활용될 수 있다. 아크 챔버의 단면은, 챔버에서의 전자들의 회전을 용이하게 하기 위해 원형 또는 거의 원형일 수 있다. 다른 실시예에서, 바이어싱된 전극들이 높이 방향으로 추출 애퍼쳐의 대향하는 측들 상에서 챔버 내에 배치될 수 있다. 일부 실시예들에서, 전극들 중 하나만이 아크 챔버의 몸체보다 큰 전압으로 바이어싱된다. An IHC ion source having increased plasma potential is disclosed. In certain embodiments, the extraction plate is biased at a higher voltage than the body of the arc chamber to achieve the higher plasma potential. Shielding electrodes may be utilized to remove the interaction between the biased extraction plate and the plasma. The cross-section of the arc chamber may be circular or nearly circular to facilitate the rotation of electrons in the chamber. In another embodiment, biased electrodes may be disposed in the chamber on opposite sides of the extraction aperture in the height direction. In some embodiments, only one of the electrodes is biased at a voltage greater than the body of the arc chamber.