Nozzle standby port unit and substrate processing apparatus including the same

본 발명은 기판의 비 처리 시 대기 위치에서 대기하는 분사 노즐을 세정할 수 있는 노즐 대기 포트 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 기판 상으로 처리액을 분사하는 분사 노즐이 상기 기판의 비 처리 시에 대기하는 대기 위치에 설치되고, 상기 분사 노즐로부터 토출되는 상기 처리액이 유입될 수 있도록 컵(Cup) 형상으로 형성되어, 상부가 개방된 내부 공간을 형성하는 몸체와, 상기 몸체의 일측에 연결되어 상기 내부 공간으로 토출된 상기 처리액을 외부로 배출하는 드레인 라인과, 상기 드레인 라인으로부터 분기되어 상기...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	KWON OH JIN, NA SEUNG EUN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL ATOMISING APPARATUS BASIC ELECTRIC ELEMENTS CLEANING CLEANING IN GENERAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY NOZZLES PERFORMING OPERATIONS PREVENTION OF FOULING IN GENERAL SEMICONDUCTOR DEVICES SPRAYING APPARATUS SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 기판의 비 처리 시 대기 위치에서 대기하는 분사 노즐을 세정할 수 있는 노즐 대기 포트 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 기판 상으로 처리액을 분사하는 분사 노즐이 상기 기판의 비 처리 시에 대기하는 대기 위치에 설치되고, 상기 분사 노즐로부터 토출되는 상기 처리액이 유입될 수 있도록 컵(Cup) 형상으로 형성되어, 상부가 개방된 내부 공간을 형성하는 몸체와, 상기 몸체의 일측에 연결되어 상기 내부 공간으로 토출된 상기 처리액을 외부로 배출하는 드레인 라인과, 상기 드레인 라인으로부터 분기되어 상기 내부 공간 내 분위기를 배기하는 배기 라인 및 상기 몸체의 상기 내부 공간에 설치되어, 상기 내부 공간으로 진입한 상기 분사 노즐을 향해 세정액 및 세정가스 중 적어도 어느 하나를 분사하는 세정 노즐을 포함할 수 있다.