가스 처리 방법 및 가스 처리 장치

오목부를 갖는 기판에 가스 처리를 실시하는 가스 처리 방법은, 챔버 내에 오목부를 갖는 기판을 배치하는 것과, 진공화된 챔버 내에 압력 조정용 가스를 공급하여 챔버 내의 압력을 상승시켜, 미리 정해진 압력으로 조절하는 것과, 이어서, 챔버 내에서 처리 가스에 의한 처리 반응을 생기게 하여 기판의 오목부 측벽에 대해서 가스 처리를 행하는 것을 갖고, 압력 조절을 실시할 때의 압력 조정 가스의 적어도 일부로서, 처리 반응을 생기게 하는 처리 가스를 사용한다. A gas treatment method of performing a gas...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	SEOK CHANGHWAN, SATO AKIHIRO, KOBAYASHI JUN, DEMICHI KIMIHIKO, TAKAHASHI TETSURO
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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