하전 입자 장치 및 하전 입자 장치 내의 컴포넌트를 위한 플랫폼
하전 입자 장치를 위한 플랫폼이 본원에서 제공되는데, 그 플랫폼은: 베이스 프레임; 기판을 포함하도록 배열되는 챔버; 하전 입자 빔을 사용하여 챔버 내의 기판을 조사하기 위한 하전 입자 빔 생성기를 지지하도록 배열되는 계측 프레임; 및 계측 프레임과 챔버 사이에서 배열되는 벨로우즈를 포함하고; 여기서: 챔버는 베이스 프레임에 견고하게 연결되고; 벨로우즈는 계측 프레임이 챔버에서 생성되는 임의의 진동으로부터 실질적으로 격리되도록 가요성 재료를 포함하고; 그리고 벨로우즈는 챔버에서 실질적인 진공이 확립될 수도 있도록 기밀성이 있다. D...
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Format: | Patent |
Sprache: | kor |
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Zusammenfassung: | 하전 입자 장치를 위한 플랫폼이 본원에서 제공되는데, 그 플랫폼은: 베이스 프레임; 기판을 포함하도록 배열되는 챔버; 하전 입자 빔을 사용하여 챔버 내의 기판을 조사하기 위한 하전 입자 빔 생성기를 지지하도록 배열되는 계측 프레임; 및 계측 프레임과 챔버 사이에서 배열되는 벨로우즈를 포함하고; 여기서: 챔버는 베이스 프레임에 견고하게 연결되고; 벨로우즈는 계측 프레임이 챔버에서 생성되는 임의의 진동으로부터 실질적으로 격리되도록 가요성 재료를 포함하고; 그리고 벨로우즈는 챔버에서 실질적인 진공이 확립될 수도 있도록 기밀성이 있다.
Disclosed herein is a platform for a charged particle apparatus, the platform comprising: a base frame; a chamber arranged to comprise a substrate; a metrology frame arranged to support a charged particle beam generator for irradiating a substrate in the chamber with a charged particle beam; and a bellow arranged between the metrology frame and the chamber; wherein: the chamber is rigidly connected to the base frame; the bellow comprises a flexible material such that the metrology frame is substantially isolated from any vibrations that are generated in the chamber; and the bellow is air tight so that a substantial vacuum may be established in the chamber. |
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