제작 공정을 특징짓는 파라미터 획득

제작 공정을 특징짓는 관심 파라미터가 공칭적으로 동일한 것으로 간주되는 제작 공정 생성물 상의 복수의 위치 각각에 대하여 측정 프로세스가 수행되어, 적어도 하나의 이미지를 포함하는 각각의 위치에 대한 측정 신호들을 도출한다. 측정 신호들의 데이터세트에 차원 축소 방법이 적용되어, 이미지들 간의 변동을 나타내는 성분들을 비롯한 데이터세트의 성분들을 획득한다. 이러한 성분들 중 적어도 하나에 대하여, 하나 이상의 연관된 측정 신호들이 식별되고, 식별된 측정 신호들은 복수의 위치에 대한 각각의 이미지들 내의 대응하는 픽셀의 세트를 적어도...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: VAN RIJSWIJK LOES FREDERIQUE, HELFENSTEIN PATRICK PHILIPP, SCHOLZ SANDY CLAUDIA, MIDDLEBROOKS SCOTT ANDERSON
Format: Patent
Sprache:kor
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:제작 공정을 특징짓는 관심 파라미터가 공칭적으로 동일한 것으로 간주되는 제작 공정 생성물 상의 복수의 위치 각각에 대하여 측정 프로세스가 수행되어, 적어도 하나의 이미지를 포함하는 각각의 위치에 대한 측정 신호들을 도출한다. 측정 신호들의 데이터세트에 차원 축소 방법이 적용되어, 이미지들 간의 변동을 나타내는 성분들을 비롯한 데이터세트의 성분들을 획득한다. 이러한 성분들 중 적어도 하나에 대하여, 하나 이상의 연관된 측정 신호들이 식별되고, 식별된 측정 신호들은 복수의 위치에 대한 각각의 이미지들 내의 대응하는 픽셀의 세트를 적어도 하나 포함한다. 데이터세트에서 식별된 측정 신호들의 기여를 감소시키거나 제거하여 처리된 신호를 획득하고, 처리된 신호로부터 관심 파라미터를 얻는다. A measurement process is performed for each of a plurality of locations on a product of a fabrication process at which a parameter of interest characterizing the fabrication process is believed to be the same, to derive measured signals for each location including at least one image. A dimensional reduction method is applied to a dataset of the measured signals, to obtain components of the dataset, including components indicative of variation between the images. For at least one of these components, one or more associated ones of the measured signals are identified, comprising at least one set of corresponding pixels in the respective images for the plurality of locations. The contribution of the identified measured signals in the dataset is reduced or eliminated to obtain a filtered signal, and the parameter of interest is obtained from the filtered signal.