진공 처리 장치

본 개시는, 검사 대상의 종류 등에 따라서 압력 변동 속도를 전환함으로써, 스루풋 저하를 방지하면서, 무른 검사 대상의 검사 시의 동작 신뢰성을 확보할 수 있는 진공 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 개시에 관한 진공 처리 장치는, 시료실과 외기 사이에서 시료를 수수하는 예비 배기실을 구비하고, 상기 시료 위에 형성되어 있는 형상 패턴의 취약도에 대응하는 파라미터에 따라서, 상기 예비 배기실을 환기하는 배관의 컨덕턴스를 변화시킨다(도 5 참조). The purpose of the present disclosure is...

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Hauptverfasser: TSUBOUCHI HIROKI, ANDOU HIROYUKI, TANOKUCHI AKITO, UBUKATA TAKAO
Format: Patent
Sprache:kor
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creator TSUBOUCHI HIROKI
ANDOU HIROYUKI
TANOKUCHI AKITO
UBUKATA TAKAO
description 본 개시는, 검사 대상의 종류 등에 따라서 압력 변동 속도를 전환함으로써, 스루풋 저하를 방지하면서, 무른 검사 대상의 검사 시의 동작 신뢰성을 확보할 수 있는 진공 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 개시에 관한 진공 처리 장치는, 시료실과 외기 사이에서 시료를 수수하는 예비 배기실을 구비하고, 상기 시료 위에 형성되어 있는 형상 패턴의 취약도에 대응하는 파라미터에 따라서, 상기 예비 배기실을 환기하는 배관의 컨덕턴스를 변화시킨다(도 5 참조). The purpose of the present disclosure is to provide a vacuum processing device that switches the rate of pressure variation depending on, e.g., the type of an object to be inspected, thereby making it possible to ensure operation reliability during inspection of a fragile object to be inspected, while preventing a decrease in throughput. The vacuum processing device according to the present disclosure comprises a preliminary exhaust chamber for the transfer of a sample between a sample chamber and the external air. The conductance of a pipe for ventilating the preliminary exhaust chamber is varied in accordance with a parameter corresponding to the fragility of a shape pattern formed on the sample (see FIG. 5).
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_KR20240108507A</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>KR20240108507A</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_KR20240108507A3</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZBB5s7zl1eatCm82zXi9bI3Cm3lL3-ycwcPAmpaYU5zKC6W5GZTdXEOcPXRTC_LjU4sLEpNT81JL4r2DjAyMTAwMDSxMDcwdjYlTBQAdvidZ</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>진공 처리 장치</title><source>esp@cenet</source><creator>TSUBOUCHI HIROKI ; ANDOU HIROYUKI ; TANOKUCHI AKITO ; UBUKATA TAKAO</creator><creatorcontrib>TSUBOUCHI HIROKI ; ANDOU HIROYUKI ; TANOKUCHI AKITO ; UBUKATA TAKAO</creatorcontrib><description>본 개시는, 검사 대상의 종류 등에 따라서 압력 변동 속도를 전환함으로써, 스루풋 저하를 방지하면서, 무른 검사 대상의 검사 시의 동작 신뢰성을 확보할 수 있는 진공 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 개시에 관한 진공 처리 장치는, 시료실과 외기 사이에서 시료를 수수하는 예비 배기실을 구비하고, 상기 시료 위에 형성되어 있는 형상 패턴의 취약도에 대응하는 파라미터에 따라서, 상기 예비 배기실을 환기하는 배관의 컨덕턴스를 변화시킨다(도 5 참조). The purpose of the present disclosure is to provide a vacuum processing device that switches the rate of pressure variation depending on, e.g., the type of an object to be inspected, thereby making it possible to ensure operation reliability during inspection of a fragile object to be inspected, while preventing a decrease in throughput. The vacuum processing device according to the present disclosure comprises a preliminary exhaust chamber for the transfer of a sample between a sample chamber and the external air. The conductance of a pipe for ventilating the preliminary exhaust chamber is varied in accordance with a parameter corresponding to the fragility of a shape pattern formed on the sample (see FIG. 5).</description><language>kor</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES ; MEASURING ; PHYSICS ; SEMICONDUCTOR DEVICES ; TESTING</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20240709&amp;DB=EPODOC&amp;CC=KR&amp;NR=20240108507A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76289</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20240709&amp;DB=EPODOC&amp;CC=KR&amp;NR=20240108507A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>TSUBOUCHI HIROKI</creatorcontrib><creatorcontrib>ANDOU HIROYUKI</creatorcontrib><creatorcontrib>TANOKUCHI AKITO</creatorcontrib><creatorcontrib>UBUKATA TAKAO</creatorcontrib><title>진공 처리 장치</title><description>본 개시는, 검사 대상의 종류 등에 따라서 압력 변동 속도를 전환함으로써, 스루풋 저하를 방지하면서, 무른 검사 대상의 검사 시의 동작 신뢰성을 확보할 수 있는 진공 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 개시에 관한 진공 처리 장치는, 시료실과 외기 사이에서 시료를 수수하는 예비 배기실을 구비하고, 상기 시료 위에 형성되어 있는 형상 패턴의 취약도에 대응하는 파라미터에 따라서, 상기 예비 배기실을 환기하는 배관의 컨덕턴스를 변화시킨다(도 5 참조). The purpose of the present disclosure is to provide a vacuum processing device that switches the rate of pressure variation depending on, e.g., the type of an object to be inspected, thereby making it possible to ensure operation reliability during inspection of a fragile object to be inspected, while preventing a decrease in throughput. The vacuum processing device according to the present disclosure comprises a preliminary exhaust chamber for the transfer of a sample between a sample chamber and the external air. The conductance of a pipe for ventilating the preliminary exhaust chamber is varied in accordance with a parameter corresponding to the fragility of a shape pattern formed on the sample (see FIG. 5).</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</subject><subject>MEASURING</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><subject>TESTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZBB5s7zl1eatCm82zXi9bI3Cm3lL3-ycwcPAmpaYU5zKC6W5GZTdXEOcPXRTC_LjU4sLEpNT81JL4r2DjAyMTAwMDSxMDcwdjYlTBQAdvidZ</recordid><startdate>20240709</startdate><enddate>20240709</enddate><creator>TSUBOUCHI HIROKI</creator><creator>ANDOU HIROYUKI</creator><creator>TANOKUCHI AKITO</creator><creator>UBUKATA TAKAO</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240709</creationdate><title>진공 처리 장치</title><author>TSUBOUCHI HIROKI ; ANDOU HIROYUKI ; TANOKUCHI AKITO ; UBUKATA TAKAO</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20240108507A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>kor</language><creationdate>2024</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</topic><topic>MEASURING</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><topic>TESTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>TSUBOUCHI HIROKI</creatorcontrib><creatorcontrib>ANDOU HIROYUKI</creatorcontrib><creatorcontrib>TANOKUCHI AKITO</creatorcontrib><creatorcontrib>UBUKATA TAKAO</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>TSUBOUCHI HIROKI</au><au>ANDOU HIROYUKI</au><au>TANOKUCHI AKITO</au><au>UBUKATA TAKAO</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>진공 처리 장치</title><date>2024-07-09</date><risdate>2024</risdate><abstract>본 개시는, 검사 대상의 종류 등에 따라서 압력 변동 속도를 전환함으로써, 스루풋 저하를 방지하면서, 무른 검사 대상의 검사 시의 동작 신뢰성을 확보할 수 있는 진공 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 개시에 관한 진공 처리 장치는, 시료실과 외기 사이에서 시료를 수수하는 예비 배기실을 구비하고, 상기 시료 위에 형성되어 있는 형상 패턴의 취약도에 대응하는 파라미터에 따라서, 상기 예비 배기실을 환기하는 배관의 컨덕턴스를 변화시킨다(도 5 참조). The purpose of the present disclosure is to provide a vacuum processing device that switches the rate of pressure variation depending on, e.g., the type of an object to be inspected, thereby making it possible to ensure operation reliability during inspection of a fragile object to be inspected, while preventing a decrease in throughput. The vacuum processing device according to the present disclosure comprises a preliminary exhaust chamber for the transfer of a sample between a sample chamber and the external air. The conductance of a pipe for ventilating the preliminary exhaust chamber is varied in accordance with a parameter corresponding to the fragility of a shape pattern formed on the sample (see FIG. 5).</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language kor
recordid cdi_epo_espacenet_KR20240108507A
source esp@cenet
subjects BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
MEASURING
PHYSICS
SEMICONDUCTOR DEVICES
TESTING
title 진공 처리 장치
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-02-09T20%3A38%3A46IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=TSUBOUCHI%20HIROKI&rft.date=2024-07-09&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EKR20240108507A%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true