Pellicle for exposure and manufacturing method for pellicle for exposure

Pellicle for exposure and manufacturing method for pellicle for exposure

노광용 펠리클이 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따른 노광용 펠리클은, 포토마스크를 덮어서 보호하는 노광용 펠리클로서, 관통부가 형성된 기판, 기판의 관통부 상에 형성된 티타늄층, 티타늄층 상에 형성된 그래핀층 및 그래핀층 상에 형성되며 그래핀층의 표면조도를 낮추는 평탄층을 포함하고, 티타늄층은 산소 및 질소가 부가되고 상기 그래핀층과 결합되어, Ti-C-O-N 구조를 형성한다....

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	LEE YE JIN, LEE YOUNG JIN, BAEK SEUNG HO, SONG CHUL KYU, KWON HYE WON, YOON DONG HO
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	노광용 펠리클이 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따른 노광용 펠리클은, 포토마스크를 덮어서 보호하는 노광용 펠리클로서, 관통부가 형성된 기판, 기판의 관통부 상에 형성된 티타늄층, 티타늄층 상에 형성된 그래핀층 및 그래핀층 상에 형성되며 그래핀층의 표면조도를 낮추는 평탄층을 포함하고, 티타늄층은 산소 및 질소가 부가되고 상기 그래핀층과 결합되어, Ti-C-O-N 구조를 형성한다.