NITROGEN GAS PURGE NOZZLE DEVICE FOR FIMS SYSTEM

본 발명은 웨이퍼 캐리어에 담긴 웨이퍼를 청정환경 하에서 공정 간에 투입하는 반도체 설비에서 웨이퍼 캐리어의 내부에 퍼지용 N2 가스를 분사하는 노즐장치에 관한 것이다. 본 발명은 풉 내부의 N2 가스 퍼지를 위한 노즐장치에서 노즐 헤드부에 씌울 수 있고 풉 출입구 주변을 감쌀 수 있는 플렉시블 소재의 캡을 포함하는 새로운 형태의 노즐장치를 구현함으로써, N2 가스 퍼지 시 노즐장치측과 풉측 간의 완벽한 기밀성능을 확보할 수 있는 등 가스의 누출을 방지할 수 있는 반도체 설비의 질소 퍼지용 노즐장치를 제공한다....

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	OH SE BIN, OH, SE CHANG
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 웨이퍼 캐리어에 담긴 웨이퍼를 청정환경 하에서 공정 간에 투입하는 반도체 설비에서 웨이퍼 캐리어의 내부에 퍼지용 N2 가스를 분사하는 노즐장치에 관한 것이다. 본 발명은 풉 내부의 N2 가스 퍼지를 위한 노즐장치에서 노즐 헤드부에 씌울 수 있고 풉 출입구 주변을 감쌀 수 있는 플렉시블 소재의 캡을 포함하는 새로운 형태의 노즐장치를 구현함으로써, N2 가스 퍼지 시 노즐장치측과 풉측 간의 완벽한 기밀성능을 확보할 수 있는 등 가스의 누출을 방지할 수 있는 반도체 설비의 질소 퍼지용 노즐장치를 제공한다.