공중합체 및 상기 공중합체를 포함하는 핫 멜트 조성물

본 출원은 자유 라디칼 중합에 의해 수득된 공중합체에 관한 것이고, 상기 공중합체는, 단량체의 총 중량을 기준으로: a) 에틸렌성 불포화기 및 광조사 하에 분해가능하여 라디칼을 형성하는 모이어티를 갖는 적어도 하나의 공중합성 광개시제 0.01 내지 10 중량%; b) 적어도 하나의 (메트)아크릴레이트기 및 적어도 하나의 에폭시드기를 갖는 적어도 하나의 에폭시 (메트)아크릴레이트 단량체 0.01 내지 10 중량%; 및 c) 에폭시드기 또는 광조사 하에 분해가능하여 라디칼을 형성하는 모이어티를 갖지 않는 적어도 하나의 에틸렌계 불포화...

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Hauptverfasser: ZIMMERMANN LENA, ROSCHKOWSKI THOMAS, SCHNEIDER ANJA
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 출원은 자유 라디칼 중합에 의해 수득된 공중합체에 관한 것이고, 상기 공중합체는, 단량체의 총 중량을 기준으로: a) 에틸렌성 불포화기 및 광조사 하에 분해가능하여 라디칼을 형성하는 모이어티를 갖는 적어도 하나의 공중합성 광개시제 0.01 내지 10 중량%; b) 적어도 하나의 (메트)아크릴레이트기 및 적어도 하나의 에폭시드기를 갖는 적어도 하나의 에폭시 (메트)아크릴레이트 단량체 0.01 내지 10 중량%; 및 c) 에폭시드기 또는 광조사 하에 분해가능하여 라디칼을 형성하는 모이어티를 갖지 않는 적어도 하나의 에틸렌계 불포화 단량체 80 내지 99.98 중량% 를 포함한다. 본 출원은 또한, 광조사 하에 가교결합가능한 물질에 관한 것으로, 상기 물질은 상기 정의된 바와 같은 공중합체; 및 적어도 하나의 이온성 광산 발생제(PAG)를 포함한다. The present application is directed to a copolymer obtained by free radical polymerization, said copolymer comprising, based on the total weight of monomers:from 0.01 to 10 wt.% of a) at least one co-polymerizable photoinitiator having an ethylenically unsaturated group and a moiety that is decomposable under photo-irradiation to form a radical;from 0.01 to 10 wt.% of b) at least one epoxy (meth)acrylate monomer having at least one (meth)acrylate group and at least one epoxide group; and,from 80 to 99.98 wt.% of c) at least one ethylenically unsaturated monomer which does not bear an epoxide group or a moiety decomposable under photo-irradiation to form a radical.The present application is further directed to a material which is crosslinkable under photoirradiation, said material comprising: a copolymer as defined above; and, at least one ionic photoacid generator (PAG).