Composition for manufacturing silicon nitride substrate and silicon nitride substrate manufactured by the same

질화규소 기판 제조용 조성물이 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 질화규소 기판 제조용 조성물은 제1규소계 분말과, 상기 제1규소계 분말 보다 평균입경이 작고 함량이 더 적은 제2규소계 분말을 포함하는 규소계 분말, 및 산화물계 소결조제를 포함하는 혼합분말을 포함하여 구현된다, 이에 의하면, 소결체의 치밀성 및 열전도율이 우수하고, 굽힘강도나 내마모성 등의 기계적 강도가 우수한 동시에, 균일한 물성을 발현할 수 있는 효과가 있다....

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Hauptverfasser: SUN GUI NAM, AN YOUNG JUN, YUN IN SU, LEE WOONG YONG, YOON GUG HO
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:질화규소 기판 제조용 조성물이 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 질화규소 기판 제조용 조성물은 제1규소계 분말과, 상기 제1규소계 분말 보다 평균입경이 작고 함량이 더 적은 제2규소계 분말을 포함하는 규소계 분말, 및 산화물계 소결조제를 포함하는 혼합분말을 포함하여 구현된다, 이에 의하면, 소결체의 치밀성 및 열전도율이 우수하고, 굽힘강도나 내마모성 등의 기계적 강도가 우수한 동시에, 균일한 물성을 발현할 수 있는 효과가 있다.