TiO2-SiO2 Method for manufacturing TiO2-SiO2 glass body and glass body menufactured thereby

TiO2-SiO2 유리체의 제조방법은, VAD 방식으로 이루어지는 퇴적 단계, 탈수 단계, 소결 단계, 성형 단계 및 어닐링 단계를 포함한다. 이 제조 방법을 통하여 제조된 TiO2-SiO2 유리체는, TiO2 의 농도가 3 ~ 10 질량 % 이고, OH 기의 농도가 최대 600 질량 ppm 이며, Ti3+ 의 농도가 최대 70 wtppm이고, 가상 온도는 최대 1200 ℃ 이며, 0 ~ 100 ℃ 에서 열팽창 계수 CTE0-100 는 0±150 ppb/℃ 이고, 400 ~ 700 nm 의 파장 대역에서 두께 1 mm 당 내부 투과...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	LEE SEUNG HO, KIM JAE SUN, KIM U SIK, SHIN SANG YEOL, OH SUNG KOOG
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUSENAMELS CHEMISTRY GLASS JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES METALLURGY MINERAL OR SLAG WOOL SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS,MINERALS OR SLAGS SURFACE TREATMENT OF GLASS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	TiO2-SiO2 유리체의 제조방법은, VAD 방식으로 이루어지는 퇴적 단계, 탈수 단계, 소결 단계, 성형 단계 및 어닐링 단계를 포함한다. 이 제조 방법을 통하여 제조된 TiO2-SiO2 유리체는, TiO2 의 농도가 3 ~ 10 질량 % 이고, OH 기의 농도가 최대 600 질량 ppm 이며, Ti3+ 의 농도가 최대 70 wtppm이고, 가상 온도는 최대 1200 ℃ 이며, 0 ~ 100 ℃ 에서 열팽창 계수 CTE0-100 는 0±150 ppb/℃ 이고, 400 ~ 700 nm 의 파장 대역에서 두께 1 mm 당 내부 투과율 T400-700 은 80 % 미만인 TiO2 를 함유한 실리카계 유리체를 얻을 수 있다. 이러한 실리카계 유리체는, 공정에서 불소(F)가 이용되지 않기 때문에, 자연 대기에 포함된 수준의 함량의 불소를 포함한다. 예를 들어, 불소의 농도는 100 wtppm 미만이다.