Substrate Processing Apparatus

Substrate Processing Apparatus

본 발명의 기술적 사상은 내부 공간을 가지는 처리 용기 및 상기 내부 공간에서 기판을 지지하고 제1 회전방향으로 회전시키는 지지 유닛을 포함하는 처리 유닛; 및 상기 내부 공간으로부터 가스를 배기하는 배기 유닛을 포함하되, 상기 배기 유닛은, 상기 내부 공간으로부터 배기되는 상기 가스의 배기 경로를 제공하는 배기관; 및 상기 처리 용기 및 상기 배기관을 연결하는 하나 이상의 연결부를 포함하되, 상기 배기관의 일단은 닫힌 형태이고, 상기 배기관의 타단에 상기 가스를 배출하는 배출구가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: CHOI BYOUNG DOO, JUNG SUN WOOK, LEE WOO RAM, PARK DONG WOON, CHO A RAH, KANG JONG WHA
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
Schlagworte:
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
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container_end_page
container_issue
container_start_page
container_title
container_volume
creator CHOI BYOUNG DOO
JUNG SUN WOOK
LEE WOO RAM
PARK DONG WOON
CHO A RAH
KANG JONG WHA
description 본 발명의 기술적 사상은 내부 공간을 가지는 처리 용기 및 상기 내부 공간에서 기판을 지지하고 제1 회전방향으로 회전시키는 지지 유닛을 포함하는 처리 유닛; 및 상기 내부 공간으로부터 가스를 배기하는 배기 유닛을 포함하되, 상기 배기 유닛은, 상기 내부 공간으로부터 배기되는 상기 가스의 배기 경로를 제공하는 배기관; 및 상기 처리 용기 및 상기 배기관을 연결하는 하나 이상의 연결부를 포함하되, 상기 배기관의 일단은 닫힌 형태이고, 상기 배기관의 타단에 상기 가스를 배출하는 배출구가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공한다.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_KR20240102759A</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>KR20240102759A</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_KR20240102759A3</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZJALLk0qLilKLElVCCjKT04tLs7MS1dwLChIBIqVFvMwsKYl5hSn8kJpbgZlN9cQZw_d1IL8-NTigsTk1LzUknjvICMDIxMDQwMjc1NLR2PiVAEAqpslrA</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>Substrate Processing Apparatus</title><source>esp@cenet</source><creator>CHOI BYOUNG DOO ; JUNG SUN WOOK ; LEE WOO RAM ; PARK DONG WOON ; CHO A RAH ; KANG JONG WHA</creator><creatorcontrib>CHOI BYOUNG DOO ; JUNG SUN WOOK ; LEE WOO RAM ; PARK DONG WOON ; CHO A RAH ; KANG JONG WHA</creatorcontrib><description>본 발명의 기술적 사상은 내부 공간을 가지는 처리 용기 및 상기 내부 공간에서 기판을 지지하고 제1 회전방향으로 회전시키는 지지 유닛을 포함하는 처리 유닛; 및 상기 내부 공간으로부터 가스를 배기하는 배기 유닛을 포함하되, 상기 배기 유닛은, 상기 내부 공간으로부터 배기되는 상기 가스의 배기 경로를 제공하는 배기관; 및 상기 처리 용기 및 상기 배기관을 연결하는 하나 이상의 연결부를 포함하되, 상기 배기관의 일단은 닫힌 형태이고, 상기 배기관의 타단에 상기 가스를 배출하는 배출구가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공한다.</description><language>eng ; kor</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20240703&amp;DB=EPODOC&amp;CC=KR&amp;NR=20240102759A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20240703&amp;DB=EPODOC&amp;CC=KR&amp;NR=20240102759A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>CHOI BYOUNG DOO</creatorcontrib><creatorcontrib>JUNG SUN WOOK</creatorcontrib><creatorcontrib>LEE WOO RAM</creatorcontrib><creatorcontrib>PARK DONG WOON</creatorcontrib><creatorcontrib>CHO A RAH</creatorcontrib><creatorcontrib>KANG JONG WHA</creatorcontrib><title>Substrate Processing Apparatus</title><description>본 발명의 기술적 사상은 내부 공간을 가지는 처리 용기 및 상기 내부 공간에서 기판을 지지하고 제1 회전방향으로 회전시키는 지지 유닛을 포함하는 처리 유닛; 및 상기 내부 공간으로부터 가스를 배기하는 배기 유닛을 포함하되, 상기 배기 유닛은, 상기 내부 공간으로부터 배기되는 상기 가스의 배기 경로를 제공하는 배기관; 및 상기 처리 용기 및 상기 배기관을 연결하는 하나 이상의 연결부를 포함하되, 상기 배기관의 일단은 닫힌 형태이고, 상기 배기관의 타단에 상기 가스를 배출하는 배출구가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공한다.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZJALLk0qLilKLElVCCjKT04tLs7MS1dwLChIBIqVFvMwsKYl5hSn8kJpbgZlN9cQZw_d1IL8-NTigsTk1LzUknjvICMDIxMDQwMjc1NLR2PiVAEAqpslrA</recordid><startdate>20240703</startdate><enddate>20240703</enddate><creator>CHOI BYOUNG DOO</creator><creator>JUNG SUN WOOK</creator><creator>LEE WOO RAM</creator><creator>PARK DONG WOON</creator><creator>CHO A RAH</creator><creator>KANG JONG WHA</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240703</creationdate><title>Substrate Processing Apparatus</title><author>CHOI BYOUNG DOO ; JUNG SUN WOOK ; LEE WOO RAM ; PARK DONG WOON ; CHO A RAH ; KANG JONG WHA</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20240102759A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; kor</language><creationdate>2024</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>CHOI BYOUNG DOO</creatorcontrib><creatorcontrib>JUNG SUN WOOK</creatorcontrib><creatorcontrib>LEE WOO RAM</creatorcontrib><creatorcontrib>PARK DONG WOON</creatorcontrib><creatorcontrib>CHO A RAH</creatorcontrib><creatorcontrib>KANG JONG WHA</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>CHOI BYOUNG DOO</au><au>JUNG SUN WOOK</au><au>LEE WOO RAM</au><au>PARK DONG WOON</au><au>CHO A RAH</au><au>KANG JONG WHA</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>Substrate Processing Apparatus</title><date>2024-07-03</date><risdate>2024</risdate><abstract>본 발명의 기술적 사상은 내부 공간을 가지는 처리 용기 및 상기 내부 공간에서 기판을 지지하고 제1 회전방향으로 회전시키는 지지 유닛을 포함하는 처리 유닛; 및 상기 내부 공간으로부터 가스를 배기하는 배기 유닛을 포함하되, 상기 배기 유닛은, 상기 내부 공간으로부터 배기되는 상기 가스의 배기 경로를 제공하는 배기관; 및 상기 처리 용기 및 상기 배기관을 연결하는 하나 이상의 연결부를 포함하되, 상기 배기관의 일단은 닫힌 형태이고, 상기 배기관의 타단에 상기 가스를 배출하는 배출구가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공한다.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; kor
recordid cdi_epo_espacenet_KR20240102759A
source esp@cenet
subjects BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
title Substrate Processing Apparatus
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2024-12-24T16%3A30%3A56IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=CHOI%20BYOUNG%20DOO&rft.date=2024-07-03&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EKR20240102759A%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true