Substrate Processing Apparatus

본 발명의 기술적 사상은 내부 공간을 가지는 처리 용기 및 상기 내부 공간에서 기판을 지지하고 제1 회전방향으로 회전시키는 지지 유닛을 포함하는 처리 유닛; 및 상기 내부 공간으로부터 가스를 배기하는 배기 유닛을 포함하되, 상기 배기 유닛은, 상기 내부 공간으로부터 배기되는 상기 가스의 배기 경로를 제공하는 배기관; 및 상기 처리 용기 및 상기 배기관을 연결하는 하나 이상의 연결부를 포함하되, 상기 배기관의 일단은 닫힌 형태이고, 상기 배기관의 타단에 상기 가스를 배출하는 배출구가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	CHOI BYOUNG DOO, JUNG SUN WOOK, LEE WOO RAM, PARK DONG WOON, CHO A RAH, KANG JONG WHA
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명의 기술적 사상은 내부 공간을 가지는 처리 용기 및 상기 내부 공간에서 기판을 지지하고 제1 회전방향으로 회전시키는 지지 유닛을 포함하는 처리 유닛; 및 상기 내부 공간으로부터 가스를 배기하는 배기 유닛을 포함하되, 상기 배기 유닛은, 상기 내부 공간으로부터 배기되는 상기 가스의 배기 경로를 제공하는 배기관; 및 상기 처리 용기 및 상기 배기관을 연결하는 하나 이상의 연결부를 포함하되, 상기 배기관의 일단은 닫힌 형태이고, 상기 배기관의 타단에 상기 가스를 배출하는 배출구가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공한다.