SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 식각, 증착 등의 처리가 수행되는 기판처리장치에서 상기 기판들을 지지하는 기판지지부 및 상기 기판지지부를 챔버에 고정시키는 고정부를 포함하는 기판처리장치에 관한 것이다. 본 발명은, 기판처리를 수행하기 위한 처리공간(S1)을 형성하는 공정챔버(100)와; 상기 처리공간(S1)에 배치되어 기판을 지지하는 기판지지부(200)와; 상기 기판지지부(200) 및 상기 공정챔버(100) 사이에서 상기 처리공간(S1)으로부터 격리된 내부공간(S2)을 형성하는 절연부(500)와; 상기 내부공간(S2)을 관통하여 상기 기판지지부(200)를 상기 공정챔버(100)에 고정하는 하나 이상의 고정부(600)를 포함하는 기판처리장치를 개시한다. The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate processing apparatus including a substrate support part for supporting a substrate in a substrate processing apparatus for performing processes such as etching, deposition, and the like, and a fixing part for fixing the substrate support part in a chamber. The present invention discloses a substrate processing apparatus, comprising: a process chamber (100) forming a processing space (S1) for performing substrate processing; a substrate support unit (200) which is disposed in the processing space (S1) and supports a substrate; an insulating part (500) which forms an internal space (S2) between the substrate supporting part (200) and the process chamber (100), the internal space (S2) being spaced from the processing space (S1); and one or more fixing parts (600) which penetrate through the internal space (S2) and fix the substrate supporting part (200) in the process chamber (100).