UNIT FOR CLEANING BACKSIDE OF SUBSTRATE AND APPARATUS FOR CLEANING SUBSTRATE HAVING THE SAME

기판 이면 세정 유닛은 기판 이면의 중심 부분을 세정하기 위한 중심 세정부, 및 상기 기판 이면의 중심 부분을 제외한 상기 기판 이면의 주연 부분을 세정하기 위한 주연 세정부를 포함할 수 있는데, 상기 주연 세정부는 상기 기판 이면의 주연 부분에 대한 세정시 상기 기판 이면의 주연 부분을 향하여 초음파가 인가되는 세정액을 분사하기 위한 주연 분사부를 포함하되, 상기 주연 분사부는 상기 세정액을 수용하는 수용부와, 상기 수용부에 수용되는 세정액에 초음파를 인가하는 초음파 인가부, 및 상기 기판 이면의 주연 부분 세정시 상기 수용부로...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SON YOUNG JUN, LIM KI HOON
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CLEANING CLEANING IN GENERAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY PERFORMING OPERATIONS PREVENTION OF FOULING IN GENERAL SEMICONDUCTOR DEVICES TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	기판 이면 세정 유닛은 기판 이면의 중심 부분을 세정하기 위한 중심 세정부, 및 상기 기판 이면의 중심 부분을 제외한 상기 기판 이면의 주연 부분을 세정하기 위한 주연 세정부를 포함할 수 있는데, 상기 주연 세정부는 상기 기판 이면의 주연 부분에 대한 세정시 상기 기판 이면의 주연 부분을 향하여 초음파가 인가되는 세정액을 분사하기 위한 주연 분사부를 포함하되, 상기 주연 분사부는 상기 세정액을 수용하는 수용부와, 상기 수용부에 수용되는 세정액에 초음파를 인가하는 초음파 인가부, 및 상기 기판 이면의 주연 부분 세정시 상기 수용부로 이물질이 유입되는 것을 차단할 수 있게 상기 수용부 상부를 커버하면서 상기 초음파가 인가되는 세정액은 상기 기판 이면을 향할 수 있게 통과시키는 통과홀이 형성되는 커버부로 이루어질 수 있다.