기판 처리 장치

본 개시의 일 양태에 의한 기판 처리 장치(1)는 기판 회전부(20)와, 컵을 구비한다. 기판 회전부(20)는 기판을 보유 지지하여 회전시킨다. 컵은, 기판 회전부(20)에 보유 지지되는 기판의 주위를 환형으로 덮는다. 또한, 컵은, 컵 기부(53)와, 제1 부재(55)와, 제2 부재(56)를 갖는다. 컵 기부(53)는 기판 회전부(20)의 전체 둘레를 둘러싼다. 제1 부재(55)는 컵 기부(53)의 상단부에 탈착 가능하게 설치되고, 기판의 외주를 환형으로 둘러싼다. 제2 부재(56)는 적어도 제1 부재(55)의 내주위단에 탈착 가능하게 설치되고, 표면(56a)이 소수성이다. A substrate processing apparatus (1) according to an embodiment of the present disclosure comprises a substrate rotating unit (20) and a cup. The substrate rotating unit (20) holds and rotates a substrate. The cup annularly covers around the substrate being held by the substrate rotating unit (20). The cup includes a cup base portion (53), a first member (55), and a second member (56). The cup base portion (53) surrounds the entire circumference of the substrate rotating unit (20). The first member (55) is detachably attached to an upper end portion of the cup base portion (53), and annularly surrounds the periphery of the substrate. The second member (56) is detachably attached to at least an inner peripheral end of the first member (55), and has a hydrophobic surface (56a).