Gallium compound composition for depositing thin film comprising the same and a process for producing the thin film using the same

Gallium compound composition for depositing thin film comprising the same and a process for producing the thin film using the same

본 발명은 갈륨 화합물, 이의 제조방법, 이를 포함하는 박막 증착용 조성물 및 이를 이용한 박막의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 갈륨 화합물은 휘발성 및 안정성이 우수하여 갈륨 함유 박막의 전구체로 매우 유용하고, 기판과의 흡착이 우수하여 보다 양질의 갈륨 함유 박막을 제조할 수 있다....

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SONG CHANG HO, LEE KYUNG EUN, PARK JOO HO, CHO SEONG JIN, KIM JIN DONG, JUNG SEUNG HOO, YANG TAEK SEUNG
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAININGELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN,SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY ORGANIC CHEMISTRY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 갈륨 화합물, 이의 제조방법, 이를 포함하는 박막 증착용 조성물 및 이를 이용한 박막의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 갈륨 화합물은 휘발성 및 안정성이 우수하여 갈륨 함유 박막의 전구체로 매우 유용하고, 기판과의 흡착이 우수하여 보다 양질의 갈륨 함유 박막을 제조할 수 있다.