NANOPATTERNING METHOD USING MULTIAXIAL TENSION

본 발명의 일실시예는 선 형태뿐만 아니라 다양한 구조의 나노 패터닝이 가능한 다축 인장을 이용한 나노 패터닝 방법을 제공한다. 여기서, 다축 인장을 이용한 나노 패터닝 방법은 기판의 상면에 제1임계변형률을 가지는 제1나노물질층을 마련하는 단계와, 제1나노물질층의 상면에 제2나노물질층을 마련하는 단계와, 제2나노물질층의 상면에 제1임계변형률보다 작은 제2임계변형률을 가지는 박막층을 마련하는 단계와, 기판에 제1방향과 제1방향과 교차하는 제2방향으로 인장력을 가해서 박막층 및 제2나노물질층에 서로 교차하는 복수의 균열이 생기도록 하는...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: JO YEH RIN, YOON MIN AH, WON SE JEONG, KIM KI CHUL, JEONG LEE KYO, LEE HAK JOO
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명의 일실시예는 선 형태뿐만 아니라 다양한 구조의 나노 패터닝이 가능한 다축 인장을 이용한 나노 패터닝 방법을 제공한다. 여기서, 다축 인장을 이용한 나노 패터닝 방법은 기판의 상면에 제1임계변형률을 가지는 제1나노물질층을 마련하는 단계와, 제1나노물질층의 상면에 제2나노물질층을 마련하는 단계와, 제2나노물질층의 상면에 제1임계변형률보다 작은 제2임계변형률을 가지는 박막층을 마련하는 단계와, 기판에 제1방향과 제1방향과 교차하는 제2방향으로 인장력을 가해서 박막층 및 제2나노물질층에 서로 교차하는 복수의 균열이 생기도록 하는 단계와, 제1나노물질층 중 균열에 의해 노출되는 부분을 에칭하여 제거하는 단계와, 박막층의 상면에 점착필름을 부착하고, 점착필름을 이동시켜 박막층과 함께 제2나노물질층을 제1나노물질층으로부터 박리하여, 기판의 상면에 남아있는 제1나노물질층으로 이루어지는 나노 패턴을 생성하는 단계를 포함한다.