핀 리프트 하드 정지부

기판 프로세싱 시스템을 위한 하드 정지부는 핀 액추에이터의 하부 벨로우즈 (bellows) 내의 제 1 어퍼처들 (apertures) 내로 연장하도록 구성된 보스들 (bosses); 및 보스들 각각 및 제 1 부분을 통해 연장하는 제 2 어퍼처들을 포함하는, 제 1 부분; 및 제 1 부분에 연결되는 제 1 단부; 및 핀 액추에이터의 브래킷과 콘택트하도록 구성된 제 2 단부로서, 브래킷은 기판 프로세싱 챔버에 핀 액추에이터를 장착하도록 구성되는, 제 2 단부를 포함하는, 제 2 부분을 포함한다. A hard stop for a sub...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	HIESTER JACOB L, CMELAK BRYAN ANTHONY, BERTSCH KEVIN, SONTI SREERAM
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	기판 프로세싱 시스템을 위한 하드 정지부는 핀 액추에이터의 하부 벨로우즈 (bellows) 내의 제 1 어퍼처들 (apertures) 내로 연장하도록 구성된 보스들 (bosses); 및 보스들 각각 및 제 1 부분을 통해 연장하는 제 2 어퍼처들을 포함하는, 제 1 부분; 및 제 1 부분에 연결되는 제 1 단부; 및 핀 액추에이터의 브래킷과 콘택트하도록 구성된 제 2 단부로서, 브래킷은 기판 프로세싱 챔버에 핀 액추에이터를 장착하도록 구성되는, 제 2 단부를 포함하는, 제 2 부분을 포함한다. A hard stop for a substrate processing system includes: a first portion including: bosses configured to extend into first apertures in a lower bellows of a pin actuator; second apertures extending through the bosses, respectively, and the first portion; and a second portion including: a first end that is connected to the first portion; and a second end configured to contact a bracket of the pin actuator, the bracket configured to mount the pin actuator to a substrate processing chamber.