이온 소스용 차폐 가스 유입구

이온 소스는 하나 이상의 방사선 발생 특징부를 구비한 아크 챔버, 내부 체적을 둘러싸는 아크 챔버 몸체, 및 내부에 규정된 적어도 하나의 가스 유입구 구멍을 갖는다. 가스 소스는 상기 가스 유입구 구멍을 통해 소스 종 가스(source species gas) 또는 할로겐화물과 같은 가스를 제공한다. 상기 소스 종 가스는 염화 디메틸알루미늄(DMAC)과 같은 알루미늄계 이온 소스 재료일 수 있다. 상기 가스 유입구 구멍에 근접하게 위치한 하나 이상의 실드는 상기 가스 유입구 구멍과 상기 내부 체적 사이의 유체 연통을 제공하고, 상기 하나 이상의 방사선 발생 특징부로부터 상기 가스 유입구 구멍으로의 가시선을 최소화하며 상기 하나 이상의 방사선 발생 특징부로부터 상기 가스 유입구 구멍으로 열 복사가 도달하지 않도록 실질적으로 방지한다. An ion source has arc chamber having one or more radiation generating features, an arc chamber body enclosing an internal volume, and at least one gas inlet aperture defined therein. A gas source provides a gas such as a source species gas or a halide through the gas inlet aperture. The source species gas can be an aluminum-based ion source material such as dimethylaluminum chloride (DMAC). One or more shields positioned proximate to the gas inlet aperture provide a fluid communication between the gas inlet aperture and the internal volume, minimize a line-of-sight from the one or more radiation generating features to the gas inlet aperture, and substantially prevent thermal radiation from reaching the gas inlet aperture from the one or more radiation generating features.