금속성 기판을 세정하고 처리하기 위한 붕산염-무함유 수성 조성물

본 발명은 적어도 1종의 메타규산염 (A); 적어도 1종의 오르토인산염 (B); 이인산염 및 삼인산염으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 인산염 (C); 음이온성 계면활성제 및 비-이온성 계면활성제로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 계면활성제 (D)를 포함하는 붕산염-무함유 수성 세정 및 처리 조성물로서; 20℃에서 11.0 내지 12.8의 범위의 pH 값을 가지며; Si-함유 메타규산염 (A)의 합계 및 P-함유 오르토인산염 (B), 이인산염 (C) 및 삼인산염 (C)의 합계를 기준으로 하여 0.75:1 내지 1:0.75의 Si 원자 대 P 원자의 몰비를 보유하는 수성 세정 및 처리 조성물에 관한 것이다. 추가로 본 발명은 고체 혼합물에 관한 것이다. 또한 본 발명은 상기 조성물을 사용하여 금속성 기판을 세정하고 처리하는 방법 및 금속성 기판을 세정하고 금속성 기판의 표면 상에 Si-함유 층을 형성함으로써 금속성 기판을 처리하기 위한 상기 조성물의 용도에 관한 것이다. Disclosed herein is a borate-free, aqueous cleaning and treating composition including at least one metasilicate (A); at least one orthophosphate (B); at least one phosphate (C); at least one surfactant (D); and where the aqueous cleaning and treating composition has a pH value at 20° C. in a range from 11.0 to 12.8; and possesses a molar ratio of Si atoms to P atoms being from 0.75:1 to 1:0.75, based on the sum of the Si-containing metasilicates (A) and the sum of the P-containing orthophosphates (B), diphosphates (C) and triphosphates (C). Further disclosed herein are solid mixtures. Additionally disclosed herein are a method for cleaning and treating metallic substrates by using the compositions and a method of using the compositions to clean metallic substrates and treat metallic substrates by forming a Si-containing layer on the surface of the metallic substrates.