Aerosol Deposition Apparatus With Slope Spray Angle And Deposition Method Using The Same

Aerosol Deposition Apparatus With Slope Spray Angle And Deposition Method Using The Same

본 발명은 경사 분사 에어로졸 증착 장치 및 그를 이용한 증착 방법에 관한 것으로, 구체적으로 기재에 대하여 에어로졸이 특정한 범위의 각을 형성하도록 분사하여 기재에 증착되는 증착층의 치밀도를 향상시키고 기공도를 개선하여 경도를 향상시키며 내플라즈마성을 향상시킬 수 있는 경사 분사 에어로졸 증착 장치 및 그를 이용한 증착 방법에 관한 것이다....

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	KIM DAE GEAN, LEE KYUNG MIN, SEOK HYE WON
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 경사 분사 에어로졸 증착 장치 및 그를 이용한 증착 방법에 관한 것으로, 구체적으로 기재에 대하여 에어로졸이 특정한 범위의 각을 형성하도록 분사하여 기재에 증착되는 증착층의 치밀도를 향상시키고 기공도를 개선하여 경도를 향상시키며 내플라즈마성을 향상시킬 수 있는 경사 분사 에어로졸 증착 장치 및 그를 이용한 증착 방법에 관한 것이다.