설계 보조 광시야 계측
계측 시스템은 샘플 상의 구조물의 제작된 인스턴스들의 레이아웃을 포함하는 설계 데이터를 수신할 수 있다. 시스템은 또한 구조물의 제작된 인스턴스들 중 다수를 포함하는 시야 내의 연관된 계측 툴로부터 검출 신호들을 수신할 수 있다. 시스템은 또한 설계 데이터를 사용하여 시야 내의 구조물의 제작된 인스턴스들과 연관된 구조물의 하나 이상의 공통 피처로부터의 검출 신호들을 조합함으로써 구조물에 대한 설계 보조 복합 데이터를 생성할 수 있다. 시스템은 또한 설계 보조 복합 데이터에 기초하여 구조물의 하나 이상의 계측 측정을 생성할 수 있다....
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Format: | Patent |
Sprache: | kor |
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Zusammenfassung: | 계측 시스템은 샘플 상의 구조물의 제작된 인스턴스들의 레이아웃을 포함하는 설계 데이터를 수신할 수 있다. 시스템은 또한 구조물의 제작된 인스턴스들 중 다수를 포함하는 시야 내의 연관된 계측 툴로부터 검출 신호들을 수신할 수 있다. 시스템은 또한 설계 데이터를 사용하여 시야 내의 구조물의 제작된 인스턴스들과 연관된 구조물의 하나 이상의 공통 피처로부터의 검출 신호들을 조합함으로써 구조물에 대한 설계 보조 복합 데이터를 생성할 수 있다. 시스템은 또한 설계 보조 복합 데이터에 기초하여 구조물의 하나 이상의 계측 측정을 생성할 수 있다.
A metrology system may receive design data including a layout of fabricated instances of a structure on a sample. The system may further receive detection signals from the metrology tool associated within a field of view including multiple of the fabricated instances of the structure. The system may further generate design-assisted composite data for the structure by combining detection signals from one or more common features of the structure associated with the fabricated instances of the structure within the field of view using the design data. The system may further generate one or more metrology measurements of the structure based on the design-assisted composite data. |
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