Substrate cleaning chamber substrate process system including the same and substrate process method using the same

기판을 웻 처리하는 것; 웻 처리된 상기 기판 상에 초임계 유체를 공급하여 상기 기판을 건조 처리하는 것; 및 건조 처리된 상기 기판을 세정 처리하는 것; 을 포함하되, 상기 기판을 세정 처리하는 것은: 상기 기판의 상면 상에 세정액을 분사하는 것; 및 상기 기판의 하면 상에 세정액을 분사하는 것; 을 포함하는 기판 처리 방법이 제공된다. A method of processing a substrate includes wetting a substrate, supplying a supercritical fluid onto the wetted substrate to dry the substrate, and cleaning the dried substrate. The cleaning of the substrate includes supplying a cleaning solution onto a top surface of the substrate, and supplying a cleaning solution onto a bottom surface of the substrate.