Evaporation source apparatus with improved deposition uniformity

증발원 장치가 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따른 증발원 장치는, 증착 물질을 증착 입자로 전환시키는 증발원 장치에 있어서, 상기 증착 입자가 분사되는 노즐이 구비되는 상측부, 상기 상측부의 일측으로부터 수직한 방향으로 연장되는 제1 측면부 및 상기 상측부의 일측으로부터 수직한 방향으로 연장되는 제2 측면부를 포함하는 바디부; 상기 바디부의 하측으로부터 삽입되고, 상기 증착 물질을 수용하는 도가니부; 및 상기 바디부와 상기 도가니부를 결합시키는 결합부를 포함하고, 상기 결합부는 상기 제1 측면부의 하측과 상기 제2 측면부의 하측을...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	KIM YEONG BEOM
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Beschreibung
Zusammenfassung:	증발원 장치가 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따른 증발원 장치는, 증착 물질을 증착 입자로 전환시키는 증발원 장치에 있어서, 상기 증착 입자가 분사되는 노즐이 구비되는 상측부, 상기 상측부의 일측으로부터 수직한 방향으로 연장되는 제1 측면부 및 상기 상측부의 일측으로부터 수직한 방향으로 연장되는 제2 측면부를 포함하는 바디부; 상기 바디부의 하측으로부터 삽입되고, 상기 증착 물질을 수용하는 도가니부; 및 상기 바디부와 상기 도가니부를 결합시키는 결합부를 포함하고, 상기 결합부는 상기 제1 측면부의 하측과 상기 제2 측면부의 하측을 관통하여 상기 도가니부에 고정될 수 있다.