JVD를 위한 표면 제조

본 특허는 다음의 단계를 포함하는 기재 상에 금속성 코팅들을 디포짓팅시키는 방법에 관한 것이다: - 상기 기재 상에서, 10 ㎛ 내지 50 ㎛의 두께를 갖고 표면 분율로, 최대 10%의 누적량의 마르텐사이트,베이나이트를 포함하고, 잔부가 페라이트로 이루어지는 미세조직을 갖는 페라이트 표면 층을 형성하게 허용하는, 어닐링 단계, - 스킨 패스 단계 - 진공 챔버 내측에서의 코팅 단계로서, 적어도 금속성 증기가 적어도 상기 기재의 측면을 향해 분출되어 적어도 하나의 금속의 표면 층을 형성하는, 상기 코팅 단계. A method for depositing metallic coatings on a substrate including an annealing step, in an annealing furnace, forming on said substrate, a ferritic surface layer having a thickness from 10 μm to 50 μm and a microstructure comprising in surface fraction up to 10% of cumulated amount of martensite, bainite and the balance being made of ferrite, a skin pass step, a coating step, inside a vacuum chamber, wherein a metallic vapour is ejected towards at least a side of said substrate to form a surface layer of at least one metal.