Substrate processing apparatus and method for operating the same

본 발명은 기판 처리장치 및 그 운용방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 독성(toxic) 가스를 공정 챔버 내에 공급하여 공정을 진행하면서 안전성을 확보할 수 있는 기판 처리장치 및 그 운용방법에 관한 것이다. 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리장치는 일측에 개구부를 갖는 공정 챔버; 상기 공정 챔버 내에 독성(toxic) 가스를 포함하는 공정 가스를 공급하는 공정가스 공급부; 상기 공정 챔버 내를 배기하는 배기부; 상기 공정 챔버의 개구부를 개폐하는 개폐 수단; 및 상기 독성 가스의 공급을 검지하여 상기 개폐 수단을 인터락(interlock)시키며, 상기 공정 챔버의 내부압력에 따라 상기 개폐 수단의 인터락을 해제하는 제어부;를 포함할 수 있다. The present invention relates to a substrate processing apparatus which can secure safety while carrying out processes by supplying a toxic gas into a processing chamber and an operating method therefor, and the substrate processing apparatus may comprise: a processing chamber having an opening in one side thereof; a processing gas supply unit which supplies a processing gas including the toxic gas into the processing chamber; an exhaust portion which exhausts the processing chamber; an opening/closing means which opens/closes the opening of the processing chamber; and a controller which interlocks the opening/closing means by sensing the supply of the toxic gas and releases the interlocking of the opening/closing means according to the internal pressure of the processing chamber.