EXHAUST ASSEMBLY AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

기판 처리 장치는 기판을 지지하고 회전시키기 위한 기판 지지부, 상기 기판 상에 처리액을 분사하기 위한 약액 분사부, 상기 기판 지지부 둘레에 배치되고 상기 기판으로부터 비산되는 처리액을 수용하기 위한 환형 형상의 수용 공간을 제공하는 컵체의 바닥벽에 상기 컵체의 중심을 기준으로 서로 대향하도록 형성되는 제1 및 제2 배기홀들을 구비하는 보울 구조물, 상기 제1 및 제2 배기홀들을 통해 수직 하방으로 각각 연장하는 제1 및 제2 배기관들, 상기 제1 및 제2 배기관들이 각각 연통되며 수평 방향으로 연장하는 제1 및 제2 배기 분기관...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	JANG HO JIN, SEO JUN HO, CHO A RAH
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL ATOMISING APPARATUS BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR NOZZLES ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES SPRAYING APPARATUS SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	기판 처리 장치는 기판을 지지하고 회전시키기 위한 기판 지지부, 상기 기판 상에 처리액을 분사하기 위한 약액 분사부, 상기 기판 지지부 둘레에 배치되고 상기 기판으로부터 비산되는 처리액을 수용하기 위한 환형 형상의 수용 공간을 제공하는 컵체의 바닥벽에 상기 컵체의 중심을 기준으로 서로 대향하도록 형성되는 제1 및 제2 배기홀들을 구비하는 보울 구조물, 상기 제1 및 제2 배기홀들을 통해 수직 하방으로 각각 연장하는 제1 및 제2 배기관들, 상기 제1 및 제2 배기관들이 각각 연통되며 수평 방향으로 연장하는 제1 및 제2 배기 분기관들, 상기 제1 및 제2 배기 분기관들이 합류되는 배기 합류관, 및 상기 배기 합류관이 연통되고 제1 방향으로 연장하며 상기 오염물질을 상기 제1 방향으로 배기시키는 메인 배기 라인을 포함한다. 상기 제1 배기홀은 제1 개방 면적을 가지고 상기 제2 배기홀은 상기 제1 개방 면적보다 큰 제2 개방 면적을 갖는다.