POLYMER PHOTORESIST COMPOSITIONS INCLUDING THE SAME AND PATTERN FORMATION METHODS

화학식 1로 표시되는 제1 단량체로부터 유도되는 제1 반복 단위; 및 산 불안정성 기, 히드록시아릴 기, 술폰아미드 기, 플루오로알코올 기, 또는 이들의 조합을 포함하는 제2 반복 단위를 포함하며: [화학식 1] (화학식 1에서, p는 에틸렌계 불포화 탄소-탄소 이중 결합을 포함하는 중합성 기이고; l1은 단일 결합 또는 연결기이고; ar은 치환 또는 비치환된 c6-30 방향족 기 또는 치환 또는 비치환된 c4-30 헤테로방향족 기이고; x는 o 또는 s이고; a는 -o-, -s-, -s(o)-, -s(o)2-, -c(o)-, -c(s)-, 또는 -n(ra)-로부터 선택되는 기이고; ra는 수소 또는 비-수소 치환체이고; r1 및 r2는 각각 본원에 정의된 바와 같음), 제1 반복 단위와 제2 반복 단위는 구조적으로 상이한, 중합체. A polymer including a first repeating unit derived from a first monomer represented by formula (1); and a second repeating unit comprising an acid labile group, a hydroxyaryl group, a sulfonamide group, a fluoroalcohol group, or a combination thereof,wherein, in formula (1), P is a polymerizable group comprising an ethylenically unsaturated carbon-carbon double bond; L1 is a single bond or a linking group; Ar is a substituted or unsubstituted C6-30 aromatic group or a substituted or unsubstituted C4-30 heteroaromatic group; X is O or S; A is a group selected from -O-, -S-, -S(O)-, -S(O)2-, -C(O)-, -C(S)-, or -N(Ra)-; Ra is hydrogen or a non-hydrogen substituent; and R1 and R2 are each as defined herein, wherein the first repeating unit and the second repeating unit are structurally different.