Apparatus for processing substrate
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 기판에 형성된 갭(gap)에 공정 물질을 충전하는 것이 가능한 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판에 대한 개별적인 복수의 공정을 위한 복수의 셀을 포함하는 공정 챔버와, 상기 공정 챔버에 구비되고, 상기 공정 챔버에 대하여 회전 가능한 디스크, 및 상기 디스크에 구비되고, 상기 디스크의 회전에 의해 상기 복수의 셀 중 특정 셀에 각각 배치되어 기판을 지지하는 복수의 기판 지지부를 포함하되, 상기 복수의 셀은, 상기 기판에 대한 박막의 증착 공정...
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| creator | LEE BAEK JU |
| description | 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 기판에 형성된 갭(gap)에 공정 물질을 충전하는 것이 가능한 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판에 대한 개별적인 복수의 공정을 위한 복수의 셀을 포함하는 공정 챔버와, 상기 공정 챔버에 구비되고, 상기 공정 챔버에 대하여 회전 가능한 디스크, 및 상기 디스크에 구비되고, 상기 디스크의 회전에 의해 상기 복수의 셀 중 특정 셀에 각각 배치되어 기판을 지지하는 복수의 기판 지지부를 포함하되, 상기 복수의 셀은, 상기 기판에 대한 박막의 증착 공정이 수행되는 증착 셀과, 상기 기판에 증착된 박막의 일부에 대한 식각 공정이 수행되는 식각 셀, 및 상기 기판에 증착된 박막에 포함된 플루오린의 제거 공정이 수행되는 제거 셀을 포함한다. |
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