리소그래피 공정을 모니터링하는 방법 및 관련된 장치

리소그래피 공정에서 기판 상에서의 하나 이상의 피처의 배치와 관련된 배치 메트릭을 결정하는 컴퓨터 실행 방법이 개시된다. 본 방법은 복수의 배치 오차 기여자 매개변수와 관련된 배치 오차 기여자 데이터 및 수율을 나타내는 수율 데이터를 포함하는 설정 데이터를 획득하는 것; 및 수율 메트릭을 예측하기 위한 통계적 모델 -상기 통계적 모델은 배치 메트릭을 기반으로 하며, 상기 배치 메트릭은 상기 배치 오차 기여자 매개변수 및 관련된 모델 계수의 함수임-을 규정하는 것을 포함한다. 모델 계수는 상기 설정 데이터를 기반으로 피팅되며; 배치...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	DILLEN HERMANUS ADRIANUS, DE ATHAYDE COSTA E SILVA MARSIL, VAN WIJK ROBERT JAN, BASTANI VAHID, ZHANG YICHEN
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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