TiO2 함유 실리카 유리 기판

본 발명은, 산화물 기준의 질량 백분율 표시로 6.7 ∼ 12 질량％ 의 TiO2 를 함유하고, 1.40 ppb/K/K 이하의 CTE-slope 를 갖고, 적어도 하나의 주면, 및 적어도 하나의 단면에 있어서, (A) JOGIS-11 (2008) 에 준하는 맥리 평가에 있어서 맥리가 관찰되지 않거나, 또는 (B) 맥리의 강도가 미국 밀리터리 규격 : MIL-G174B 의 클래스 A 에 해당하는, TiO2 함유 실리카 유리 기판에 관한 것이다. The present invention relates to a TiO2-containing...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	OWADA TOMOKI, KURATA SATORU, SASAKI KAZUYA, KAWAGISHI MASAHIRO
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUSENAMELS CHEMISTRY GLASS JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES METALLURGY MINERAL OR SLAG WOOL SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS,MINERALS OR SLAGS SURFACE TREATMENT OF GLASS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은, 산화물 기준의 질량 백분율 표시로 6.7 ∼ 12 질량％ 의 TiO2 를 함유하고, 1.40 ppb/K/K 이하의 CTE-slope 를 갖고, 적어도 하나의 주면, 및 적어도 하나의 단면에 있어서, (A) JOGIS-11 (2008) 에 준하는 맥리 평가에 있어서 맥리가 관찰되지 않거나, 또는 (B) 맥리의 강도가 미국 밀리터리 규격 : MIL-G174B 의 클래스 A 에 해당하는, TiO2 함유 실리카 유리 기판에 관한 것이다. The present invention relates to a TiO2-containing silica glass substrate that: contains 6.7-12 mass % of TiO2, expressed as a mass percentage on an oxide basis; has a CTE-slope of 1.40 ppb/K/K or less; and, in at least one main surface and at least one end surface, (A) no striae are observed in a stria evaluation in compliance with JOGIS 11-2008, or (B) the striation intensity corresponds to class A under US military specification MTL-G-174 B.