플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 제어 방법
플라즈마 처리 장치는, 처리 용기와, 전자파 발생기와, 공진기 배열 구조체를 구비한다. 처리 용기는, 처리 공간을 제공한다. 전자파 발생기는, 처리 공간에 공급되는 플라즈마 여기용의 전자파를 발생시킨다. 공진기 배열 구조체는, 전자파의 자계 성분과 공진 가능하고 또한 사이즈가 전자파의 파장보다 작은 복수의 공진기를 배열하여 형성되며, 처리 용기 내에 위치한다. A plasma processing apparatus includes a processing container, an electromagnetic wave generator,...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | kor |
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| Zusammenfassung: | 플라즈마 처리 장치는, 처리 용기와, 전자파 발생기와, 공진기 배열 구조체를 구비한다. 처리 용기는, 처리 공간을 제공한다. 전자파 발생기는, 처리 공간에 공급되는 플라즈마 여기용의 전자파를 발생시킨다. 공진기 배열 구조체는, 전자파의 자계 성분과 공진 가능하고 또한 사이즈가 전자파의 파장보다 작은 복수의 공진기를 배열하여 형성되며, 처리 용기 내에 위치한다.
A plasma processing apparatus includes a processing container, an electromagnetic wave generator, and a resonator array structure. The processing container provides a processing space. The electromagnetic wave generator generates an electromagnetic wave for plasma excitation that is supplied to the processing space. The resonator array structure is formed by arranging resonators configured to resonate with a magnetic field component of the electromagnetic wave, each of the resonators having a size smaller than a wavelength of the electromagnetic wave, and is positioned in the processing container. |
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