마이크로파 플라즈마의 실시간 최적화를 위한 방법 및 장치

마이크로파 플라즈마의 실시간 최적화 방법은 마이크로파 플라즈마의 스월 가스 유동의 주입 각도, 마이크로파 플라즈마의 스월 가스 유동의 규모, 또는 마이크로파 플라즈마에 인가되는 마이크로파 전력을 실시간으로 조정하는 단계를 포함한다. 최적화 스켐은, 특정한 프로세스 요건을 위해 또는 시스템에서 시변 드리프트를 해결하기 위해 생성될 수 있다. 예를 들어, 시스템이 정상-상태 작동에 도달함에 따라 토치의 출력 온도가 드리프트함에 따라, 튜닝 알고리즘은 요망되는 출력 온도를 회복하기 위해 입력들을 조정할 수 있다. A method of r...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	KOZLOWSKI MICHAEL, SHANG ZONGREN
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL ATOMISING APPARATUS CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY NOZZLES PERFORMING OPERATIONS PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL PLASMA TECHNIQUE PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS SPRAYING APPARATUS SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL THEIR RELEVANT APPARATUS TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	마이크로파 플라즈마의 실시간 최적화 방법은 마이크로파 플라즈마의 스월 가스 유동의 주입 각도, 마이크로파 플라즈마의 스월 가스 유동의 규모, 또는 마이크로파 플라즈마에 인가되는 마이크로파 전력을 실시간으로 조정하는 단계를 포함한다. 최적화 스켐은, 특정한 프로세스 요건을 위해 또는 시스템에서 시변 드리프트를 해결하기 위해 생성될 수 있다. 예를 들어, 시스템이 정상-상태 작동에 도달함에 따라 토치의 출력 온도가 드리프트함에 따라, 튜닝 알고리즘은 요망되는 출력 온도를 회복하기 위해 입력들을 조정할 수 있다. A method of real time optimization of a microwave plasma includes adjusting in real time an injection angle of a swirl gas flow of the microwave plasma, the magnitude of the swirl gas flow of the microwave plasma, or the microwave power applied to the microwave plasma.