강화된 EUV 포토레지스트 및 그 사용 방법

본 특허 출원은 용매; 및 (I)로부터 선택되는 화학 구조를 갖는 에스테르를 포함하는 물질의 조성물을 개시하며, 여기서 X 및 Y는 동일하거나 상이하고, 여기서 X, Y 및 R1 - R4는 사슬 내에 치환된 0 - 16개의 헤테로원자를 갖는 1 - 24개의 탄소 원자의 분지형 또는 비분지형, 치환 또는 비치환된 알킬 사슬, 치환 또는 비치환된 페닐기, 헤테로방향족기, 또는 융합된 방향족 또는 융합된 헤테로방향족기 또는 둘 모두의 조합이다. JPEGpct00014.jpg4234 The present application for patent discloses a composition of matter comprising a solvent; and an ester having a chemical structure chosen from (I) wherein X and Y are the same or different, wherein X, Y and R1 - R4 and are branched or unbranched, substituted or unsubstituted alkyl chains of 1 - 24 carbon atoms having 0 - 16 heteroatoms substituted into the chain, are substituted or unsubstituted phenyl groups, heteroaromatic groups, or fused aromatic or fused heteroaromatic groups or combinations of both.