METHOD FOR ANALYSIS OF PARTICLE COATING COVERAGE AND POSITIVE ELECTRODE ACTIVE MATERIAL

METHOD FOR ANALYSIS OF PARTICLE COATING COVERAGE AND POSITIVE ELECTRODE ACTIVE MATERIAL

본 발명은 입자 코팅율 분석 방법에 관한 것으로, 코팅 대상 입자 표면에 원자층 증착법에 따라 코팅층을 형성할 때, 미량의 시료를 이용하면서도, 형상 분석을 통해 원자층 증착법에 따른 코팅율을 분석할 수 있고, 이를 양극 활물질에 이용함으로써, 양극 활물질의 표면에 형성된 코팅층의 두께가 필요 이상으로 두꺼워져 저항층으로 작용하지 않으며, 충분한 코팅율로 코팅층이 형성된 양극 활물질을 제조할 수 있다....

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	PARK SUNG EUN, KIM EUI TAE, LEE EUN JEONG, JOE JE MEE, KIM KI HWAN, LEE GEUN SUNG
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRICITY INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MEASURING MEASURING ANGLES MEASURING AREAS MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS PHYSICS PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSIONOF CHEMICAL INTO ELECTRICAL ENERGY TESTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 입자 코팅율 분석 방법에 관한 것으로, 코팅 대상 입자 표면에 원자층 증착법에 따라 코팅층을 형성할 때, 미량의 시료를 이용하면서도, 형상 분석을 통해 원자층 증착법에 따른 코팅율을 분석할 수 있고, 이를 양극 활물질에 이용함으로써, 양극 활물질의 표면에 형성된 코팅층의 두께가 필요 이상으로 두꺼워져 저항층으로 작용하지 않으며, 충분한 코팅율로 코팅층이 형성된 양극 활물질을 제조할 수 있다.