펠리클막, 펠리클, 펠리클 부착 노광 원판, 노광 방법, 반도체의 제조 방법 및 액정 표시판의 제조 방법
본 발명은, 질화 붕소 나노 튜브를 갖는 막(BNNT막)을 포함하는 것을 특징으로 하는 펠리클막, 및 펠리클막과 펠리클 프레임으로 구성되고, 해당 펠리클막이 접착제를 개재하여 상기 펠리클 프레임의 일단면에 설치되는 포토리소그래피용 펠리클로서, 상기 펠리클막이 BNNT막을 포함하는 것인 것을 특징으로 하는 펠리클을 제공한다. 본 발명에 의하면, EUV 노광에서의 투과율이 높고, 내열성 및 내구성이 뛰어나며, 또한, 수소 라디칼 내성을 갖는 펠리클막 및 이것을 구비한 펠리클을 제공할 수 있다. The present invention p...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 본 발명은, 질화 붕소 나노 튜브를 갖는 막(BNNT막)을 포함하는 것을 특징으로 하는 펠리클막, 및 펠리클막과 펠리클 프레임으로 구성되고, 해당 펠리클막이 접착제를 개재하여 상기 펠리클 프레임의 일단면에 설치되는 포토리소그래피용 펠리클로서, 상기 펠리클막이 BNNT막을 포함하는 것인 것을 특징으로 하는 펠리클을 제공한다. 본 발명에 의하면, EUV 노광에서의 투과율이 높고, 내열성 및 내구성이 뛰어나며, 또한, 수소 라디칼 내성을 갖는 펠리클막 및 이것을 구비한 펠리클을 제공할 수 있다.
The present invention provides: a pellicle film including a film (BNNT film) having boron nitride nanotubes; and a pellicle for photolithography including a pellicle film and a pellicle frame, wherein the pellicle film is provided on one end surface of the pellicle frame via an adhesive, and the pellicle film includes a BNNT film. According to the present invention, it is possible to provide: a pellicle film which has a high permeation for EUV exposure, has excellent heat resistance and durability, and has hydrogen radical resistance; and a pellicle provided with the same. |
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