SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND POSITION DETECTION METHOD

측정기의 계측에 있어서 기판의 위치를 보다 안정적으로 검출할 수 있는 기술을 제공한다. 기판 처리 장치는, 기판을 유지하는 유지부와, 유지부에 유지되는 기판의 대향 위치에 마련되어, 기판과의 상대 거리를 계측하는 측정기와, 측정기와 기판과의 상대 위치를 변위시키는 이동부와, 측정기가 접속되고, 또한 이동부를 제어하는 제어부를 구비한다. 측정기는, 복수의 파장마다 상이한 초점 거리에 설정된 백색 공초점 방식에 의해 기판의 표면을 반사한 반사광을 검출한다. 제어부는, 미리 보유하는 임계치와 반사광의 수광량을 비교하여, 반사광의 수광량이 임계치 미만인 경우에, 이동부에 의해 상대 위치를 변위시키고, 그 후에 측정기가 계측한 상대 거리를 이용하여 기판의 위치를 산출한다. A technique capable of more stably detecting a position of a substrate with respect to a measurement of a measuring device is provided. A substrate processing device comprises a holding portion holding the substrate; a measuring device disposed at a position opposed to the substrate held by the holding portion and measuring a relative distance to the substrate; a moving portion for displacing the relative position between the measuring device and the substrate; and a control portion connected to the measuring device and controlling the moving portion. The measuring device detects the reflected light reflected on the surface of the substrate by way of white confocal of respectively setting different focus distances with respect to a plurality of wavelengths. The control portion compares the light receiving amount of the reflected light with a prestored threshold value. Under the circumstance of the light receiving amount of the reflected light that does not satisfy the threshold value, the relative position displaces through the moving portion. Afterward, the relative distance measured by using the measuring device is used to calculate the position of the substrate.