리소그래피 장치, 록킹 디바이스, 및 방법
리소그래피 장치는 패터닝 디바이스의 패턴을 조명하기 위한 조명 시스템, 패턴의 이미지를 기판 상에 투영시키기 위한 투영 시스템, 패터닝 디바이스 또는 기판을 지지하기 위한 가동 스테이지, 슬롯형 대상물, 및 가동 스테이지의 움직임을 방지하기 위한 록킹 디바이스(700)를 포함한다. 록킹 디바이스는 액추에이터(702), 및 링 특징부(708)를 포함하고 액추에이터에 결합된 휠 디바이스(704)를 포함한다. 액추에이터는 휠 디바이스를 회전축(706)을 중심으로 회전시킨다. 링 특징부는 회전축에 평행하게 규정된 폭(710)을 갖는다. 폭...
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| description | 리소그래피 장치는 패터닝 디바이스의 패턴을 조명하기 위한 조명 시스템, 패턴의 이미지를 기판 상에 투영시키기 위한 투영 시스템, 패터닝 디바이스 또는 기판을 지지하기 위한 가동 스테이지, 슬롯형 대상물, 및 가동 스테이지의 움직임을 방지하기 위한 록킹 디바이스(700)를 포함한다. 록킹 디바이스는 액추에이터(702), 및 링 특징부(708)를 포함하고 액추에이터에 결합된 휠 디바이스(704)를 포함한다. 액추에이터는 휠 디바이스를 회전축(706)을 중심으로 회전시킨다. 링 특징부는 회전축에 평행하게 규정된 폭(710)을 갖는다. 폭은 휠 디바이스의 방위각 방향에 대해 가변적이다. 링 특징부는 슬롯형 대상물의 슬롯과 맞물린다. 휠 디바이스를 회전시키는 것은 디바이스와 슬롯형 대상물 간의 상대적인 움직임이 방지되도록 슬롯 내의 링 특징부의 폭을 조정한다.
A lithographic apparatus includes an illumination system to illuminate a pattern of a patterning device, a projection system to project an image of the pattern onto a substrate, a movable stage to support the patterning device or the substrate, a slotted object, and a locking device (700) to prevent a motion of the movable stage. The locking device comprises an actuator (702) and a wheel device (704) comprising a ring feature (708) and coupled to the actuator. The actuator rotates the wheel device about a rotation axis (706). The ring feature has a width (710) defined parallel to the rotation axis. The width is variable with respect to azimuthal direction of the wheel device. The ring feature engages a slot of the slotted object. The rotating adjusts the width of the ring feature within the slot such that a relative motion between the device and the slotted object is prevented. |
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A lithographic apparatus includes an illumination system to illuminate a pattern of a patterning device, a projection system to project an image of the pattern onto a substrate, a movable stage to support the patterning device or the substrate, a slotted object, and a locking device (700) to prevent a motion of the movable stage. The locking device comprises an actuator (702) and a wheel device (704) comprising a ring feature (708) and coupled to the actuator. The actuator rotates the wheel device about a rotation axis (706). The ring feature has a width (710) defined parallel to the rotation axis. The width is variable with respect to azimuthal direction of the wheel device. The ring feature engages a slot of the slotted object. The rotating adjusts the width of the ring feature within the slot such that a relative motion between the device and the slotted object is prevented.</description><language>kor</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2024</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240312&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240032839A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20240312&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20240032839A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>DINE ANDI</creatorcontrib><creatorcontrib>BURBANK DANIEL NATHAN</creatorcontrib><title>리소그래피 장치, 록킹 디바이스, 및 방법</title><description>리소그래피 장치는 패터닝 디바이스의 패턴을 조명하기 위한 조명 시스템, 패턴의 이미지를 기판 상에 투영시키기 위한 투영 시스템, 패터닝 디바이스 또는 기판을 지지하기 위한 가동 스테이지, 슬롯형 대상물, 및 가동 스테이지의 움직임을 방지하기 위한 록킹 디바이스(700)를 포함한다. 록킹 디바이스는 액추에이터(702), 및 링 특징부(708)를 포함하고 액추에이터에 결합된 휠 디바이스(704)를 포함한다. 액추에이터는 휠 디바이스를 회전축(706)을 중심으로 회전시킨다. 링 특징부는 회전축에 평행하게 규정된 폭(710)을 갖는다. 폭은 휠 디바이스의 방위각 방향에 대해 가변적이다. 링 특징부는 슬롯형 대상물의 슬롯과 맞물린다. 휠 디바이스를 회전시키는 것은 디바이스와 슬롯형 대상물 간의 상대적인 움직임이 방지되도록 슬롯 내의 링 특징부의 폭을 조정한다.
A lithographic apparatus includes an illumination system to illuminate a pattern of a patterning device, a projection system to project an image of the pattern onto a substrate, a movable stage to support the patterning device or the substrate, a slotted object, and a locking device (700) to prevent a motion of the movable stage. The locking device comprises an actuator (702) and a wheel device (704) comprising a ring feature (708) and coupled to the actuator. The actuator rotates the wheel device about a rotation axis (706). The ring feature has a width (710) defined parallel to the rotation axis. The width is variable with respect to azimuthal direction of the wheel device. The ring feature engages a slot of the slotted object. The rotating adjusts the width of the ring feature within the slot such that a relative motion between the device and the slotted object is prevented.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2024</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZDB_vWzNm7aeV9t3vJ434-2UPQpv5i19s3OGjsLrhXPfNu1UeD1lyusNU97M3fKmawlQcEM_EK98vWkqDwNrWmJOcSovlOZmUHZzDXH20E0tyI9PLS5ITE7NSy2J9w4yMjAyMTAwNrIwtnQ0Jk4VALW9Pdw</recordid><startdate>20240312</startdate><enddate>20240312</enddate><creator>DINE ANDI</creator><creator>BURBANK DANIEL NATHAN</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20240312</creationdate><title>리소그래피 장치, 록킹 디바이스, 및 방법</title><author>DINE ANDI ; BURBANK DANIEL NATHAN</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20240032839A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>kor</language><creationdate>2024</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>DINE ANDI</creatorcontrib><creatorcontrib>BURBANK DANIEL NATHAN</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>DINE ANDI</au><au>BURBANK DANIEL NATHAN</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>리소그래피 장치, 록킹 디바이스, 및 방법</title><date>2024-03-12</date><risdate>2024</risdate><abstract>리소그래피 장치는 패터닝 디바이스의 패턴을 조명하기 위한 조명 시스템, 패턴의 이미지를 기판 상에 투영시키기 위한 투영 시스템, 패터닝 디바이스 또는 기판을 지지하기 위한 가동 스테이지, 슬롯형 대상물, 및 가동 스테이지의 움직임을 방지하기 위한 록킹 디바이스(700)를 포함한다. 록킹 디바이스는 액추에이터(702), 및 링 특징부(708)를 포함하고 액추에이터에 결합된 휠 디바이스(704)를 포함한다. 액추에이터는 휠 디바이스를 회전축(706)을 중심으로 회전시킨다. 링 특징부는 회전축에 평행하게 규정된 폭(710)을 갖는다. 폭은 휠 디바이스의 방위각 방향에 대해 가변적이다. 링 특징부는 슬롯형 대상물의 슬롯과 맞물린다. 휠 디바이스를 회전시키는 것은 디바이스와 슬롯형 대상물 간의 상대적인 움직임이 방지되도록 슬롯 내의 링 특징부의 폭을 조정한다.
A lithographic apparatus includes an illumination system to illuminate a pattern of a patterning device, a projection system to project an image of the pattern onto a substrate, a movable stage to support the patterning device or the substrate, a slotted object, and a locking device (700) to prevent a motion of the movable stage. The locking device comprises an actuator (702) and a wheel device (704) comprising a ring feature (708) and coupled to the actuator. The actuator rotates the wheel device about a rotation axis (706). The ring feature has a width (710) defined parallel to the rotation axis. The width is variable with respect to azimuthal direction of the wheel device. The ring feature engages a slot of the slotted object. The rotating adjusts the width of the ring feature within the slot such that a relative motion between the device and the slotted object is prevented.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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