리소그래피 장치, 록킹 디바이스, 및 방법
리소그래피 장치는 패터닝 디바이스의 패턴을 조명하기 위한 조명 시스템, 패턴의 이미지를 기판 상에 투영시키기 위한 투영 시스템, 패터닝 디바이스 또는 기판을 지지하기 위한 가동 스테이지, 슬롯형 대상물, 및 가동 스테이지의 움직임을 방지하기 위한 록킹 디바이스(700)를 포함한다. 록킹 디바이스는 액추에이터(702), 및 링 특징부(708)를 포함하고 액추에이터에 결합된 휠 디바이스(704)를 포함한다. 액추에이터는 휠 디바이스를 회전축(706)을 중심으로 회전시킨다. 링 특징부는 회전축에 평행하게 규정된 폭(710)을 갖는다. 폭...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 리소그래피 장치는 패터닝 디바이스의 패턴을 조명하기 위한 조명 시스템, 패턴의 이미지를 기판 상에 투영시키기 위한 투영 시스템, 패터닝 디바이스 또는 기판을 지지하기 위한 가동 스테이지, 슬롯형 대상물, 및 가동 스테이지의 움직임을 방지하기 위한 록킹 디바이스(700)를 포함한다. 록킹 디바이스는 액추에이터(702), 및 링 특징부(708)를 포함하고 액추에이터에 결합된 휠 디바이스(704)를 포함한다. 액추에이터는 휠 디바이스를 회전축(706)을 중심으로 회전시킨다. 링 특징부는 회전축에 평행하게 규정된 폭(710)을 갖는다. 폭은 휠 디바이스의 방위각 방향에 대해 가변적이다. 링 특징부는 슬롯형 대상물의 슬롯과 맞물린다. 휠 디바이스를 회전시키는 것은 디바이스와 슬롯형 대상물 간의 상대적인 움직임이 방지되도록 슬롯 내의 링 특징부의 폭을 조정한다.
A lithographic apparatus includes an illumination system to illuminate a pattern of a patterning device, a projection system to project an image of the pattern onto a substrate, a movable stage to support the patterning device or the substrate, a slotted object, and a locking device (700) to prevent a motion of the movable stage. The locking device comprises an actuator (702) and a wheel device (704) comprising a ring feature (708) and coupled to the actuator. The actuator rotates the wheel device about a rotation axis (706). The ring feature has a width (710) defined parallel to the rotation axis. The width is variable with respect to azimuthal direction of the wheel device. The ring feature engages a slot of the slotted object. The rotating adjusts the width of the ring feature within the slot such that a relative motion between the device and the slotted object is prevented. |
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