ADHESIVE SHEET FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
표면 코트층, 완충층, 기재 및 점착제층을, 이 순서로 갖고, 상기 표면 코트층이, 수지 성분과, 소수화 처리된 실리카를 함유하는 층인, 반도체 가공용 점착 시트 및 그 반도체 가공용 점착 시트를 이용하는 반도체 장치의 제조 방법에 관한 것이다....
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Hauptverfasser: | , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | 표면 코트층, 완충층, 기재 및 점착제층을, 이 순서로 갖고, 상기 표면 코트층이, 수지 성분과, 소수화 처리된 실리카를 함유하는 층인, 반도체 가공용 점착 시트 및 그 반도체 가공용 점착 시트를 이용하는 반도체 장치의 제조 방법에 관한 것이다. |
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