최소 RF 손실을 갖는 다중 존 히터
예시적인 기판 지지 조립체들은 기판 시트를 정의하는 기판 지지 표면을 정의하는 정전 척 바디를 포함할 수 있다. 기판 지지 조립체들은 정전 척 바디와 커플링된 지지 스템을 포함할 수 있다. 기판 지지 조립체들은 정전 척 바디 내에 매립된 상부 히터를 포함할 수 있다. 상부 히터는 중앙 히터 존 및 중앙 히터 존과 동심인 하나 이상의 환형 히터 존들을 포함할 수 있다. 기판 지지 조립체들은 정전 척 바디 내에서 상부 히터 아래의 포지션에 매립된 하부 히터를 포함할 수 있다. 하부 히터는 복수의 아치형 히터 존들을 포함할 수 있다. E...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 예시적인 기판 지지 조립체들은 기판 시트를 정의하는 기판 지지 표면을 정의하는 정전 척 바디를 포함할 수 있다. 기판 지지 조립체들은 정전 척 바디와 커플링된 지지 스템을 포함할 수 있다. 기판 지지 조립체들은 정전 척 바디 내에 매립된 상부 히터를 포함할 수 있다. 상부 히터는 중앙 히터 존 및 중앙 히터 존과 동심인 하나 이상의 환형 히터 존들을 포함할 수 있다. 기판 지지 조립체들은 정전 척 바디 내에서 상부 히터 아래의 포지션에 매립된 하부 히터를 포함할 수 있다. 하부 히터는 복수의 아치형 히터 존들을 포함할 수 있다.
Exemplary substrate support assemblies may include an electrostatic chuck body defining a substrate support surface that defines a substrate seat. The substrate support assemblies may include a support stem coupled with the electrostatic chuck body. The substrate support assemblies may include an upper heater embedded within the electrostatic chuck body. The upper heater may include a center heater zone and one or more annular heater zones that are concentric with the center heating zone. The substrate support assemblies may include a lower heater embedded within the electrostatic chuck body at a position below the upper heater. The lower heater may include a plurality of arcuate heater zones. |
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