화합물, 박막 형성용 원료, 박막 및 박막의 제조 방법

본 발명은, 하기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물, 그 화합물을 포함하는 박막 형성용 원료, 박막 및 박막의 제조 방법이다. JPEGpct00020.jpg4375 (식 중, R1 ∼ R4 는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소 원자수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타내고, R5 및 R6 은 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타내고, A 는 탄소 원자수 1 ∼ 5 의 알칸디일기를 나타내고, L 은 하기 일반식 (L-1) 또는 (L-2) 로 나타내는 기를 나타내고, M 은 하프늄 원자, 지르코늄 원자 또는 티탄 원...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	HATASE MASAKO, MITSUI CHIAKI
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAININGELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN,SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY ORGANIC CHEMISTRY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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