주사형 축소 투영 광학계 및 이것을 이용한 레이저 가공 장치

본 발명에서는, 가로 멀티 모드의 펄스 레이저광을, 렌즈 어레이형의 줌 호모지나이저, 어레이 마스크(10), 스캐닝 미러(4), 포토마스크(6), 텔레센트릭 투영 렌즈(8)를 개재하여, 도너 기판 상에 미소 에어리어의 사이즈로 결상시키는 주사형 축소 투영 광학계에 의해, 도너 기판 상의 미소 소자를 대향하는 리셉터 기판 상에 높은 위치 정밀도로 리프트한다. 그 실시 공정으로서, 위치 정보 취득을 위한 검사, 리프트 에어리어 분할, 조사 위치 선택, 전사, 스테이지 이동의 각 공정을 밟는다. 이것에 의해, 대구경(大口徑)의 고액인 fθ 렌즈나 텔레센트릭 축소 투영 렌즈를 이용하는 일 없이, 스캐너의 정밀도 부족을 보충하면서, 균일하고 변동이 없는 에너지 분포를 갖는 미소한 조사 에어리어를 광범위하고 고정밀도로 또한 고속으로 스캔할 수 있는 주사형 축소 투영 광학계와, 이것을 탑재한 실장용 또는 재전사용의 리프트 장치 등을 저코스트로 제공할 수 있으며, 게다가 그 실시 방법도 제공할 수 있다. In the present invention, micro devices on a donor substrate are subjected to LIFT onto an opposed receptor substrate with high position accuracy by a scanning reduced projection optical system that forms an image of traverse multimode pulsed laser light with a minute area size onto the donor substrate through a lens array-type zoom homogenizer, an array mask 10, a scanning mirror 4, a photomask 6, and a telecentric projection lens 8. An implementation method thereof includes steps of inspection for acquiring position information, LIFT area division, irradiation position selection, transfer, and stage moving. This configuration can provide a scanning reduced projection optical system capable of scanning a minute irradiation area having a uniform and invariable energy distribution over a wide range with high accuracy and high speed while compensating for scanner accuracy deficiencies, without using expensive fθ lenses or telecentric reduced projection lenses with large apertures, as well as a LIFT apparatus for mounting or retransfer equipped with the scanning reduced projection optical system at low costs, and an implementation method thereof.