Apparatus for heating wafer

본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼 가열 장치는 내부 공간을 가지는 가열 챔버 및 상기 가열 챔버의 내부 공간에 배치되는 웨이퍼를 가열하는 가열 램프를 포함하며, 상기 가열 램프는 개구된 영역을 가지는 원형의 띠 형상으로 이루어지는 복수개의 램프와, 상기 복수개의 램프의 개구된 영역에 인접한 영역과 상기 복수개의 램프의 개구된 영역 중 적어도 하나의 영역에 배치되는 적어도 하나의 램프를 구비할 수 있다. A wafer heating apparatus may include a heating chamber having an internal...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	KIM YI HWAN, CHO JAE HYUN, JEON YOUNG JAE, KIM JOO HEE, LEE SANG MIN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC HEATING ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!