LIFT PIN PROTECTION ASSEMBLY AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판 처리 장치는, 기판에 대한 공정이 진행되는 챔버; 상기 챔버의 내부에 설치되어 상기 기판이 놓여지는 서셉터; 상기 서셉터를 관통하여 상기 기판을 지지가능한 복수의 리프트핀들; 상기 서셉터의 하부면으로부터 돌출되어, 상기 서셉터의 하부면으로부터 돌출된 상기 리프트핀의 일부를 각각 감싸는 복수의 프로텍션 플러그들을 포함한다. According to an embodiment of the present invention, a substrate processing apparatus comprises: a chamber in which a process for a substrate is performed; a susceptor which is installed inside the chamber and has the substrate placed thereon; a plurality of lift pins which pass through the susceptor and are capable of supporting the substrate; and a plurality of protection plugs which protrude from the lower surface of the susceptor and respectively surround portions of the lift pins protruding from the lower surface of the susceptor.